HOLD DEG AVKJØLT
Lett meshpanel bak, konstruert for å forbedre ventilasjonen og gi 20+ UPF beskyttelse.
HURTIGTØRKENDE
Dobbeltstrikket hovedpanel bruker et indre lag for å transportere svette bort fra huden og et ytre lag for å spre fuktighet på overflaten, noe som gir rask fuktighetshåndtering og 50+ UPF beskyttelse.
ANTI-LUKT TEKNOLOGI
Den plantebaserte luktfjerneren HeiQ Mint™ kontrollerer ubehagelig luktutvikling på tekstiler, og gir stoffer en langvarig luktkontrollfunksjon som holder tekstilene luktende friskt hele dagen.
REFLEKTERENDE DETALJER
Reflekterende logoer og kant på skuldre, armer og rygg.
HOLD DEG AVKJØLT
Lett meshpanel bak, konstruert for å forbedre ventilasjonen og gi 20+ UPF beskyttelse.
HURTIGTØRKENDE
Dobbeltstrikket hovedpanel bruker et indre lag for å transportere svette bort fra huden og et ytre lag for å spre fuktighet på overflaten, noe som gir rask fuktighetshåndtering og 50+ UPF beskyttelse.
ANTI-LUKT TEKNOLOGI
Den plantebaserte luktfjerneren HeiQ Mint™ kontrollerer ubehagelig luktutvikling på tekstiler, og gir stoffer en langvarig luktkontrollfunksjon som holder tekstilene luktende friskt hele dagen.
REFLEKTERENDE DETALJER
Reflekterende logoer og kant på skuldre, armer og rygg.
...